Mikro­system- und Nano­tech­nik

Die Gruppe Mikrosystem- & Nanotechnik betreibt die Reinräume des NMI. Wir sind spezialisiert auf die Entwicklung und Kleinserienfertigung von Mikro- und Nanosystemen für Life-Science-Anwendungen.

Für diese Syteme werden spezielle biostabile Elektroden aus Titannitrid und Iridium sowie 3D Elektroden prozessiert. Für die Mikro- und Nanostrukturierung werden optische Lithografie, Elektronenstrahl-, Focused Ion Beam (FIB) und Nanoimprintlithografie verwendet. Damit können Strukturen im Bereich von 20nm bis 100µm erzeugt werden.

Techniken und Methoden

Reinraum Klasse ISO 5

Dünnschichttechnik mit

  • Physical Vapour Deposition (PVD)
  • Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition (PECVD)

Optische Lithografie

  • Suss MA6
  • Suss MA200 Compact

Nano-Lithografie

  • Elektronenstrahllithografie (Zeiss FESEM Gemini mit Raith Elphy)
  • Nanoimprinting (EVG 620)
  • Focused Ion Beam (FIB) rapid prototyping
  • Additive Nanolithografie
  • Ion Beam Induced Deposition (IBID)
  • Ionenätzen

Plasmaätzen

  • Metalle und Isolatoren

Mikrogalvanik

  • Entwicklung von 3D Elektroden
  • Galvanische Verstärkung von Bondpads

Nassprozesse

  • KOH Ätzen
  • HF-Ätzen

Analytik und Messtechnik

Analytische Elektronenmikroskopie

  • EDX (Energy Dispersive X-Ray Analysis)
  • FIB/SEM Querschnittsanalyse
  • FIB/SEM Tomographie

Entwicklung von Präparations Methoden

  • Biologisch Technische Grenzflächen

Elektrochemische Charaktersierungsmethoden,

  • Impedanzmessung
  • Impedanz-Spektroskopie 

Aufbau- und Verbindungstechnik

  • Kleben
  • Löten
  • Bonden
  • Laser-Mikrostrukturierung

Entwicklung und Produktion von Biosensoren / Mikroelektroden-Systemen

  • MEAs
  • Polyimid MEAs
  • MEA Produktion