Mikrosystem- und Nanotechnik
- Nanostruktur mit hohem Aspektverhältnis, hergestellt mittels Elektronenstrahl-Deposition
Die Gruppe betreibt den Reinraum des NMI. In diesem Reinraum der Klasse ISO 5 werden Mikro- und Nanosysteme für life sciences Anwendungen entwickelt und in Kleinserie produziert.
Für diese Syteme werden spezielle biostabile Elektroden aus Titannitrid und Iridium sowie 3D Elektroden prozessiert. Für die Mikro- und Nanostrukturierung werden optische Lithografie, Elektronenstrahl-, Focused Ion Bam (FIB) und Nanoimprintlithografie verwendet. Damit können Strukturen im Bereich von 20nm bis 100µm.
Techniken, Methoden, Ausstattung
Reinraum Klasse ISO 5
- Dünnschichttechnik mit
- Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition (PECVD)
- Physical Vapour Deposition (PVD)
- Lithografie, Strukturierung und Analytik von dünnen Schichten
- Elektronenstrahllithografie (Zeiss FESEM Gemini mit Raith Elphy)
- Nanoimprinting (EVG 620)
- Plasmaätzen
- Mikrogalvanik
- Nassprozesse
Elektrochemische Charaktersierungsmethoden, Impedanz-Spektroskopie
Aufbau- und Verbindungstechnik (Kleben, Löten, Bonden)
Laser-Mikrostrukturierung
- Schichtabscheidung, Strukturierung
- Analytische Elektronenmikroskopie
- Entwicklung und Produktion von Mikroelektroden-Systemen
- SNOM
Sphärisches Rundfensterimplantat für Schwerhörige
Entwicklung des inneren Implantats mit Fotodiode, Polyimidkabel und Aktor mehr
ANI - ein autonomes neurochemisches Implantat
Neuartige Implantate sollen synaptische Funktionen übernehmen, wenn diese gestört sind - zum Beispiel bei Netzhaut-Erkrankungen. mehr
- Carbon Nanotube Elektroden
Nanostrukturierte Mikroelektroden-Arrays
Ein multinationales Konsortium untersucht die Interaktion zwischen Zellen und nanostrukturierten Oberflächen. mehr